Ionenimplantation  (German, Paperback, Ryssel Heiner)

In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Buecher zum Thema Ionenimplanta- tion, die sich fast ausschliesslich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation taetige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einraeumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta- tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or- schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veraenderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation fuer ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muss deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriss der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsaechlich verwendeten Mess- methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natuerlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Moeglich- keiten der Implantation eingegangen.